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鍍鋁膜、鍍鋁薄膜和氧化硅膜對水蒸氣和氧氣具有優異的阻隔性能，因此被廣泛應用于各種包裝產品中。但是，由于蒸發材料的不同，相應的阻隔膜在應用上仍存在一定的差異。
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鍍鋁膜
采用物理沉積法(真空蒸發法)在塑料基體上沉積鋁原子。但它主要用于包裝領域，因為它不透明，不能適應微波加熱，不耐蒸發，阻隔性較差，所以在一些領域的應用受到限制。
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氧化鋁膜
氧化鋁鍍膜通常通過物理氣相沉積或磁控濺射來制備。在PET、PA、PP等基材上蒸鍍AlO阻隔層，具有高抗水阻氧、透明可視的優點，可用于微波加熱。其缺點是AlOx層較硬，容易開裂，阻隔性能低于氧化硅膜，因此在高端封裝領域的應用受到限制。
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氧化硅薄膜
氧化硅納米薄膜的制備主要是可以通過研究等離子體輔助學生化學氣相沉積的方法進行沉積SiOx膜層，其具有高阻水阻氧性、透明數據可視、保香、耐蒸煮等綜合技術性能，是未來高阻隔包裝設計市場經濟發展的方向。
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氧化鋁比較硬，容易開裂，如果開裂，阻隔性變差；二氧化硅密度低時阻隔性不足，密度高時會有顏色。所以國內阻擋膜行業未來可能會像日企一樣開發氧化硅\\u002Falumina混鍍阻擋膜。
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